لیتوگرافی نوری یا طرح نگاری نوری (به انگلیسی: Photolithography)
در این فرایند پس از نشاندن یک لایه پلیمری حساس به نور (پلیمر واسط یا پلیمر مقاوم) روی سطح زیرلایه، پرتو نور همگن از یک ماسک عبور کرده و طرحی روی پلیمر ایجاد می‌کند. در فرایند طرح نگاری نوری پس از ایجاد طرح روی پلیمر واسط، نواحی نور دیده، با مقاومت در برابر خوردگی، واسطه انتقال طرح به لایه زیرین می‌شوند؛ این فرایند بسیار شبیه به مهرسازی با نور فرابنفش است؛ و در صنعت ساخت ادوات الکترونیک نقش مهمی بازی می‌کند.
از زمان اختراع طرح نگاری نوری توسط نایپسه تا کنون منابع انرژی متفاوتی برای این کار استفاده شده، که منجر به ایجاد خانواده‌های مختلف طرح نگاری شده است: فوتون فرابنفش، اشعه ایکس، الکترون. علت اصلی استفاده از طول موج‌های کوتاه، رسیدن به ظرافت بیشتر در ساخت ادوات الکترونیک است.
ماسک در طرح نگاری نوری[ویرایش]
ماسک‌ها در اصل صفحات کوارتزی هستند که بر رویشان با کُروم الگویی همانند شکل۱ داده شده است. بدیهی است که ساخت یک قطعه با دقت بسیار بالای هندسی و دقیقاً مشابه ماسک امکان پذیر نیست. برای ساخت ماسک‌ها از باریکهٔ الکترونی با دقتی حدود کسری از میکرومتر استفاده می‌شود. این تکنیک لیتروگرافی الکترونی است که با جزئیات در اینجا مورد مطالعه قرار نمی‌گیرد. اگر دقت زیر میکرومتری در دسترس نباشد از روش‌های دیگری نظیر ژل، پرینت با کیفیت بالا روی ماده شفاف و... استفاده می‌شود.
فهرست مطالب:
اساس لیتوگرافی
لیتوگرافی در اصطلاح
کاربرد لیتوگرافی
عوامل تعیین کننده عملکرد لیتوگرافی
وضوح
ثبت کردن
خروجی
روش های لیتوگرافی
نوع اول
نوع دوم
اتاق تمیز
لیتوگرافی نوری
چاپ سایه ای
چاپ تماسی
چاپ نزدیک
ماسک
فوتورزیست و انوع آن
انتقال الگو
لیتوگرافی الکترونی
مزایای لیتوگرافی الکترونی
لیتوگرافی اشعه ایکس
لیتوگرافی یونی
مقایسه تکنیک های لیتوگرافی
پاورپوینت کامل با عنوان لیتوگرافی و انواع آن در 48 اسلاید